靜電吸附
靜電吸附技術在泛半導體、光學等領域中有著廣泛應用。靜電卡盤（E-CHUCK）是一種適用于真空及等離子體工況環境的超潔凈晶圓片承載體，它利用靜電吸附原理進行超薄晶圓片的平整均勻夾持，是PVD、ETCH、離子注入等高端裝備的核心部件。- 產品介紹
- 產品特性
- 技術參數
- 圖片參考
- ? ? ? ?靜電吸附技術在泛半導體、光學等領域中有著廣泛應用。靜電卡盤（E-CHUCK）是一種適用于真空及等離子體工況環境的超潔凈晶圓片承載體，它利用靜電吸附原理進行超薄晶圓片的平整均勻夾持，是PVD、ETCH、離子注入等高端裝備的核心部件。
? ? ? ?庫倫型靜電吸盤與晶片接觸的表面之介電層為高阻抗陶瓷材料。陶瓷層中夾有一層導電電極層，當電極被接通到高壓直流電源后，介電質的表面會產生極化電荷，分布在晶片背面的電荷與分布在吸盤上面的電荷極性相反，晶片即會被吸盤吸住。
? ? ? 當靜電吸盤使用的介電層材料為半導體材料時，稱為Johnsen-Rahbek 靜電吸盤（JR ESC）。其介電質表面不僅有極化電荷，還有很大部分自由電荷，這是因為JR吸盤的介電質有一定導電性。一般來說，JR吸盤的吸力比庫倫型的大。
微信二維碼